仪器设备名称

X射线光电子能谱仪

购置平台

分析测试平台

1. 主要性能指标

一．主要用途：

用于粉末、薄膜、块状等各种有机无机材料的表面几个原子层（1~10纳米）的化学组成、价态，深度剖析、成像分析及功函数分析与表征。

二．设备基本功能：

1. 单色化XPS

2. 微区XPS

3. 成像XPS

4. 角分辨XPS

5. 深度剖析XPS

6. 紫外光电子能谱（UPS）

7. 预处理室样品清洁离子枪

三．主要参数及技术指标：

1.  真空系统

1.1 分析室：防磁不锈钢涂覆抗氢µ金属制造，烘烤后真空度优于1×10^-8mbar

1.2 预处理室及进样室：防磁不锈钢制造，具备独立的真空系统，烘烤后真空度优于7×10^-7mbar

1.3 烘烤系统：集成于系统内部；最高烘烤温度不低于120℃

2. 分析室样品台

2.1五轴样品台，即X、Y、Z移动，倾斜及旋转

2.2样品台移动范围：X方向不小于±25mm, Y方向不小于±15mm，Z方向不小于0-20mm

2.3中心旋转：0~360°

2.4 倾斜：以水平方向为轴至少在-90℃～+90℃范围内可倾斜。

2.5 控制：X、Y、Z和倾斜全自动控制与记忆；

3. 静电传输透镜

3.1选区分析模式：能够实现不移动样品台的选点微区分析和扫描成像

3.2 能量扫描范围：0～1500eV，能实现全谱和精细谱的采集

3.3 能很好的完成磁性样品的分析

4. 采谱电子能量分析器

4.1 类型： 180^o双聚焦球扇形分析器；

4.2 半球分析器半径不小于150mm

5. 电子检测器

5.1 组成：可采用两种方案：a) 多通道板（MCP）和双层128物理通道的二维阵列延迟线检测器（DLD）；b）光电子探测器为128通道MCP探测器

5.3 操作模式：扫描采谱、快速平行成像、扫描成像

5.3快速平行成像：空间分辨率优于3μm

5.4扫描成像：最小束斑优于20μm

6. Al Kα单色化XPS

4.1 射线源类型：水冷Al靶射线源；

4.2 分辨率：XPS能量分辨率≦0.5eV

4.3 灵敏度：大面积XPS，Ag3d^5/2(FWHM≦1.0eV)强度大于10⁶CPS.

7. 荷电中和器

7.1 构成：与传输透镜同轴的全自动荷电中和器；

7.2 能量分辨率和灵敏度：PET绝缘材料上O-C=O 的C 1s的FWHM≤0.85eV时C-H的C 1s强度≥15kcps；

8. 紫外光电子能谱（UPS）

8.1 主要应用：价带谱，功函数测试

8.1 光源：He紫外光源；

8.2 能量分辨和灵敏度：Ag费米边20%～80%≤120meV时Ag 4d计数率≥1Mcps；

9. 分析室用离子枪

9.1 可用于样品的清洁和深度剖析，氩离子源

9.2 单离子模式离子最高能量不低于4KeV，连续可调

10. 谱仪控制和数据处理

10.1谱仪控制：全计算机自动控制，谱仪参数设置，系统软件应实现可视化操作；分析部件均可通过系统软件控制；系统软件具备可视化操作界面，实现对真空泵、阀门、真空规、离子枪、中和枪等的控制；所有进气阀门均可通过软件控制实现自动化开启和关闭；系统软件内置真空安全互锁控制模块，可有效禁止真空设备的误操作；多功能样品台，样品台移动可通过鼠标操作实时的光学像而实现，并具有可视化操作界面。

10.2数据处理：定性分析、定量分析、曲线拟合等；

10.3 数据库：提供全部技术资料，包括完整的数据库和标准谱图手册，终生免费软件升级。

10.3计算机：主流计算机（双显示器）。

四．配置要求：

1. 仪器主机

2. UPS（紫外光电子能谱）

3. 计算机系统（双显示器）

4. 随机备件一套及工具包一套

5. 冷却水系统及冷却水增压泵一套

6. 稳压电源一套和2小时不间断电源一套

7. 操作手册及标准谱图一套

五．根据需要可选的配件（需单独报价）

   1. 氩离子团簇离子枪

   1.1 主要应用：适用于有机材料的表面清洁和深度剖析

   1.2 团簇离子源能量可达20KV

   1.3 氩离子团簇个数可达2000个

   2. 样品加热冷却装置

2.1 温度范围：-140℃～600℃,连续可调

   3. IPES（反射电子能量损失谱）

3.1 主要应用：导带谱、态密度、LUMO

3.2 电子能量范围：1-50eV

3.3 能量分辨率：≤0.6eV（标准多晶银样品）

   供应商类型：   分销商(Distributor)□；   制造商(Manufacturer)□;  两者都是(Both)□；

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